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张学良多高,少帅张学良多高 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界(jiè)4月24日消息,国家知识产权局局(jú)长申(shēn)长雨在(zài)新闻发(fā)布(bù)会上(shàng)表(biǎo)示,将统(tǒng)筹推进各类知识(shí)产权法律(lǜ)法规(guī)和制度规则的制修订工作。其中,修改完(wán)善集成电路布图设(shè)计保护条例,适应(yīng)大规模(mó)集成电路发(fā)展需要,助力芯片产(chǎn)业做大做强,服务(wù)数字(zì)经济更(gèng)好发展。

  加(jiā)强大数据、人工智能(néng)、基因(yīn)技(jì)术(张学良多高,少帅张学良多高shù)等(děng)新领域新业(yè)态知识(shí)产权规(guī)则研究(jiū),助力相关(guān)领域创新发展。同(tóng)时,积极(jí)参(cān)与(yǔ)知识产(chǎn)权国际(jì)规则制定,更好(hǎo)对(duì)接高(gāo)标准国际经贸规则,助(zhù)力高水(shuǐ)平对外开放。

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